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纹理基元

纹理基元

基函数的字典为:


常用的基函数文Gabor基,LoG(高斯拉普拉斯基)和其他小波基函数,假设有表示基函数的平移,旋转和尺度变化,为正交转换空间,然后我们获取影像基的数据集

则根据影像基元的影像成像模型可以表示为:

在公式(1)是基的数目,是第个基元的系数。由于是过完备的字典,变量集可以唯一标识一个基所有的隐藏变量通过一个基础映射表现:

在影像编码的过程中,我们认为影像基是独立同分布的,位置,分辨率,方向都假设是均匀分布:


其中可以选择为拉普拉斯分布或两个标准差接近于0高斯混合的分布,对于任何

由于具有很高的丰度,因此的具体形式并不是很重要,在以上影像模型中,影像映射包括隐含变量和字典的参数。

在特征空间的K均值聚类

在区分方法中,基函数可以被认为是滤波器,通过对滤波器进行旋转和尺度变换可以获取一系列的滤波器则对于在位置指示滤波响应为:

与上一个模型相比,此模型为影像的确定性的转换,如果影像结构具有重复的特征,则我们有理由相信可以以聚类的形式得到,通过K均值聚类的方法可以得到纹理单元。聚类中心可以被视为从特征向量到影像标识转换的伪逆矩阵,则令是聚类中心,则影像标识可以通过最小二乘得到:

enter image description here

上图为k均值聚类方法得到的纹理单元的结果。
对于以上两种方法有两个结论,首先以上两种方法的基础不同,在影像生成方法中影像可以通过确定的方程生成,通过一些基向量求和得到。另外此两种方法都会面临一个问题,同一个影像结构平移、旋转和尺度变化会有多个结构,这是由于在分割影像快的时候都是以固定的位置和方向进行分割的。

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